報告簡介：

在制備新型生物芯片器件時，通常會涉及到光刻工藝。而在諸多光刻技術(shù)中，無掩膜光刻技術(shù)因其獨(dú)特的優(yōu)勢和特點(diǎn)，成為當(dāng)前最為流行高效的一種。與傳統(tǒng)掩膜版技術(shù)相比，無掩膜曝光技術(shù)具有高分辨、高對準(zhǔn)精度、更加簡易操作等諸多優(yōu)勢，能夠輕松實(shí)現(xiàn)微米、亞微米級精度的光刻、套刻。配合各類標(biāo)準(zhǔn)微加工工藝，能夠方便快捷地實(shí)現(xiàn)各類生物芯片器件的制備。在本報告中，將重點(diǎn)介紹無掩膜光刻技術(shù)最新前沿進(jìn)展，結(jié)合來自國內(nèi)外以色列理工，IBM，復(fù)旦等頂尖科研單位在國際期刊發(fā)表的研究成果，探討無掩膜光刻技術(shù)在生物芯片領(lǐng)域的應(yīng)用。

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報告時間：

2021年12月15日 14:00（北京時間）

主講人：

喻博聞  博士

喻博聞博士，畢業(yè)于澳大利亞昆士蘭大學(xué)機(jī)械與礦業(yè)學(xué)院，博士期間研究方向為微納機(jī)電器件中的界面問題，以及微納尺度操縱和加工技術(shù)。于2021年4月加入Quantum Design中國子公司表面光譜部門，負(fù)責(zé)微納加工相關(guān)產(chǎn)品在全國的應(yīng)用開發(fā)、技術(shù)支持及市場拓展工作。

技術(shù)線上論壇：

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