不同應(yīng)用場景下的飛納電鏡選型指南

瀏覽次數(shù)：226　發(fā)布日期：2025-1-9　來源：本站　僅供參考，謝絕轉(zhuǎn)載，否則責(zé)任自負(fù)

2025飛納電鏡選型

飛納 (Phenom) 源自 FEI，誕生于荷蘭 “發(fā)明之城” 埃因霍溫，以 “任何人都可用的電鏡” 聞名于世。讓您的掃描電鏡測試變得簡單高效是我們一直以來的目標(biāo)。

飛納目前在中國擁有 2000 多名用戶，包括數(shù)百家高校；中科院等各類研究院所；政府機(jī)構(gòu)；以及新能源、生命科學(xué)等企業(yè)單位。研究領(lǐng)域涉及金屬及合金，電池，地質(zhì)，考古，高分子，靜電紡絲，陶瓷，復(fù)合材料，生物醫(yī)學(xué)，微生物等。

制樣簡單 無需噴金即可觀察不導(dǎo)電樣品

飛納臺式掃描電鏡
相較傳統(tǒng)電鏡，成像速度提升 10 倍：
獨(dú)家采用，平均 3 年以上更換燈絲
不挑安裝環(huán)境，，放置高樓層也無需擔(dān)心
原廠集成能譜 EDS，
讓精密儀器無后顧之憂，
最“老”的電鏡，也是最“新”的電鏡!
自動化掃描電鏡，讓測試效率翻倍

01. 新品速遞
2024 年，飛納電鏡推出一系列新技術(shù)-- ChemiSEM 彩色成像軟件，ChemiPhase 物相分析軟件和 Phenom MAPS 大面積能譜拼圖軟件等最新技術(shù)，不僅打破大家對于掃描電鏡圖片是黑白的傳統(tǒng)認(rèn)知，而且將掃描電鏡成像分析帶入一個(gè)全新的高度。

ChemiSEM 技術(shù)
EDS 能譜儀在電鏡工作時(shí)始終在后臺收集成分?jǐn)?shù)據(jù)，利用算法同時(shí)處理 BSE 和 EDS 信號，實(shí)時(shí)顯示樣品的形態(tài)和定量元素分布結(jié)果。簡化對金屬、陶瓷、電池、涂層和軟材料等多種材料的復(fù)雜分析。

飛納電鏡ChemiSEM 彩色成像技術(shù)

ChemiPhase 物相分析
統(tǒng)計(jì)分析 X 射線面掃成像數(shù)據(jù)，并按照成分組成的特異性進(jìn)行相的劃分，提取出特征相分布。同時(shí)具有相歸類，計(jì)算相比例等功能，非常適用于合金、陶瓷、礦物分析等領(lǐng)域的測試分析。

Phenom MAPS 系統(tǒng)
Phenom MAPS 提供的是一個(gè)涵蓋所有樣品信息的數(shù)碼存檔，從全面（宏觀）到具體（微觀）無所不包，徹底變革了傳統(tǒng)掃描電鏡的分析與數(shù)據(jù)存儲模式。并且，多圖層數(shù)據(jù)可以包含能譜。

飛納電鏡phenom maps

此外，飛納電鏡還為大家?guī)砑捎谂_式掃描電鏡的 AFM（原子力顯微鏡）方案 —— Phenom AFM-SEM 原子力掃描電鏡一體機(jī)，實(shí)現(xiàn)在同一系統(tǒng)中對樣品進(jìn)行多模態(tài)（SEM 及 AFM 形貌、元素、機(jī)械、電學(xué)、磁學(xué)）的關(guān)聯(lián)分析。

Phenom AFM-SEM 在樣品分析和先進(jìn)的 3D 相關(guān)成像方面為用戶提供了前所未有的可能性，具有無與倫比的圖像對齊精度。多功能性證明了其在材料科學(xué)、納米技術(shù)、半導(dǎo)體、太陽能電池開發(fā)、生命科學(xué)和其他研究領(lǐng)域以及工業(yè)應(yīng)用等各個(gè)領(lǐng)域的適用性。

02. 電鏡選型
系列一 | 臺式場發(fā)射掃描電鏡
飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡，完全防震，在臺式機(jī)身上獲得接近大型場發(fā)射的性能。優(yōu)秀的低電壓成像能力，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，最大程度還原樣品的真實(shí)形貌。延續(xù)電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)，升級的快速面掃可以即時(shí)顯示所選元素的分布情況，實(shí)時(shí)能譜分析功能大幅提升了檢測效率。

產(chǎn)品特點(diǎn)

肖特基場發(fā)射電子槍
分辨率最高的臺式電鏡
可選 STEM 模式：BF、DF、HAADF 像
卓越的低電壓成像
電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)
不受震動、磁場等環(huán)境因素干擾

型號推薦
Pharos STEM 掃描透射電鏡

STEM掃描透射電鏡

分辨率：優(yōu)于 1nm
成像模式：BF、DF、HAADF

Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

Pharos G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

分辨率：優(yōu)于 1.5 nm
放大倍數(shù)：2,000,000 X

Nano G2 臺式場發(fā)射掃描電鏡

分辨率：優(yōu)于 2.5 nm
放大倍數(shù)：1,000,000 X

系列二 | 六硼化鈰燈絲（CeB6）掃描電鏡
全新一代六硼化鈰（CeB6）晶體燈絲掃描電鏡，臺式設(shè)計(jì)，完全防震。操作便捷，適用不同經(jīng)驗(yàn)級別的用戶，培訓(xùn) 30 分鐘即可上手操作。支持拓展各種特色功能。

產(chǎn)品特點(diǎn)

獨(dú)家采用 CeB6 燈絲，高分辨成像，使用時(shí)長不低于 1500h
成像最快的掃描電鏡：15s 抽真空，30s 成像
電鏡能譜一體化設(shè)計(jì)
不受震動、磁場等環(huán)境因素干擾

型號推薦
Phenom XL 大樣品室卓越版

AI 智能化全自動掃描電鏡：Maps 地圖式多模態(tài)、多維度自動掃描拼圖及關(guān)聯(lián)系統(tǒng)
100x100mm 大樣品倉室：36 個(gè)樣品位、超越落地式電鏡的樣品可視區(qū)域（100*100 mm）；可選配原位拉伸/壓縮樣品臺
完全集成能譜 EDS（選配）：原廠集成能譜探測器，實(shí)時(shí)能譜面掃，物相分析，大面積能譜拼圖
開放編程接口的自動化掃描電鏡：支持自定義腳本編程，自定義專屬您的SEM工作流，可自定義自動化拍照、自動形成數(shù)據(jù)報(bào)告等

高性價(jià)比系列推薦
Phenom ProX

放大倍數(shù)：350,000 X
分辨率：優(yōu)于 6 nm
探測器：BSD，SED（可選），EDS

Phenom Pro

放大倍數(shù)：350,000 X
分辨率：優(yōu)于 6 nm
探測器：BSD，SED（可選）

Phenom Pure

放大倍數(shù)：175,000 X
分辨率：優(yōu)于 10 nm
探測器：BSD，SED（可選）

系列三 | ParticleX 全自動掃描電鏡
ParticleX 以掃描電鏡和能譜儀為基礎(chǔ)，結(jié)合自動控制系統(tǒng)以及強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)，可以全自動對雜質(zhì)顆粒進(jìn)行快速識別、分析和分類統(tǒng)計(jì)，為客戶的研發(fā)以及生產(chǎn)提供快速、準(zhǔn)確和可靠的定量數(shù)據(jù)支持。

型號推薦
ParticleX Battery 全自動鋰電清潔度分析

Cu、Zn 異物及鐵磁性異物檢測

ParticleX TC 全自動汽車清潔度檢測

符合 ISO16232，VDA19 標(biāo)準(zhǔn)

ParticleX Steel全自動鋼鐵夾雜物分析

一體化鋼中非金屬夾雜物分析

ParticleX 全自動顆粒統(tǒng)計(jì)分析

顆粒分析及過程控制的工業(yè)級解決方案

系列四 | 刑偵司法鑒定專用掃描電鏡
Phenom GSR 槍擊殘留物分析

在槍支犯罪事件中，槍擊殘留物（GSR）的分析發(fā)揮著重要的作用。GSR 分析技術(shù)首先基于掃描電子顯微鏡（SEM）的背散射成像，用來掃描樣品和發(fā)現(xiàn) “可疑” 的 GSR 顆粒。一旦發(fā)現(xiàn)可疑的顆粒，使用能譜（EDS）識別該顆粒的元素。最常見的搜索元素為 Pb，Sb 和 Ba。無鉛底火的檢測，例如 Ti 和 Zn 也可作為搜索條件進(jìn)行搜索。

Diatom AI 自動檢測系統(tǒng)（電鏡）

DiatomAI™ 利用人工智能的技術(shù)，賦能法醫(yī)硅藻檢驗(yàn)系統(tǒng)，配合 DiatomScope™ ，實(shí)現(xiàn)了掃描和檢測的全自動化。它是目前市面上最可靠、最高效、自動化程度最高的硅藻檢測解決方案，幫助法醫(yī)在檢測過程中實(shí)現(xiàn)硅藻的全自動檢測，識別過程全程無需人工參與。大大縮短了檢測時(shí)間，提升工作效率。

03. SEM 樣品制備
SEMPREP SMART 配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。用于掃描電子顯微鏡（SEM）和電子背散射衍射（EBSD）樣品的最終加工和清潔。離子加工可以改進(jìn)和清潔機(jī)械拋光的 SEM 樣品，并為 EBSD 分析制備無損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品，例如在半導(dǎo)體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實(shí)現(xiàn)出色的效果。

離子研磨儀